沉金(Electroless Nickel Immersion Gold, ENIG)是一种在电子组件上镀金的工艺,常用于提高电子元件的耐腐蚀性、耐磨性和可焊性。沉金层的厚度通常在0.05微米(5纳米)到0.1微米(10纳米)之间,这是为了确保足够的覆盖层厚度以保护基底材料,同时保持良好的焊接性能。

具体的沉金厚度会根据不同的应用需求和行业标准有所变化。在某些高要求的应用中,可能会使用更厚的沉金层。然而,过厚的沉金层可能会增加成本,并且可能会影响焊接性能。因此,选择合适的沉金厚度需要综合考虑多个因素。
「点击下面查看原网页 领取您的八字精批报告☟☟☟☟☟☟」
侵权及不良内容联系邮箱:seoserver@126.com,一经核实,本站将立刻删除。